Imec installe à Louvain la machine à fabriquer des puces la plus avancée au monde

Le centre de recherche imec a commencé à installer dans sa salle blanche l'appareil de lithographie le plus avancé au monde, la machine EUV High NA d'ASML. L'imec, en tant que chiplabo mondial, est ainsi prêt à conduire l'industrie des puces vers l'ère ångström dans les années à venir, permettant la prochaine vague d'innovation en matière d'intelligence artificielle.

L'échelle des distances atomiques

Les smartphones, les ordinateurs et les systèmes d'intelligence artificielle deviennent de plus en plus puissants à mesure que les éléments constitutifs des puces deviennent de plus en plus petits. Lors de la création de l'imec en 1984, les dimensions des plus petites structures d'une puce informatique étaient encore exprimées en micromètres (un millième de millimètre). Aujourd'hui, nous sommes entrés dans l'ère du nanomètre (un millième de micromètre) et l'imec a défini une feuille de route pour aider l'industrie des puces à passer aux dimensions ångström dans les années à venir. Un ångström est dix fois plus petit qu'un nanomètre et se situe à l'échelle des distances atomiques.

La lithographie joue un rôle crucial dans cette mise à l'échelle : dans ce processus, des milliards de motifs minuscules sont simultanément "imprimés" sur une plaque de silicium à l'aide de la lumière. Aujourd'hui, on utilise la lithographie EUV, qui applique des structures très fines à l'aide d'une lumière ultraviolette extrême. La résolution de ces motifs dépend de deux facteurs : la longueur d'onde de la lumière EUV (13,5 nanomètres) et l'ouverture numérique (NA) - une mesure de la manière dont les lentilles de l'appareil capturent et concentrent la lumière EUV. Plus l'ouverture numérique est élevée, plus les détails sont nets.

Le prochain grand projet

En repensant radicalement l'optique, ASML a développé une nouvelle génération de machines EUV avec une NA plus élevée. L'EUV à NA élevée est le résultat d'une interaction ingénieuse entre des lasers extrêmement puissants pour générer de la lumière EUV, des miroirs parfaitement polis pour refléter la lumière avec une précision sans précédent et d'autres technologies révolutionnaires. La machine a été perfectionnée dans le laboratoire High NA EUV commun à ASML et imec à Veldhoven depuis 2024. Aujourd'hui, la technologie High NA EUV est prête à passer à la phase suivante à Louvain.

L'appareil, qui a la taille d'un bus urbain et pèse 150 tonnes, est transporté en plusieurs modules. Le premier module a été transporté de Veldhoven à Louvain cette semaine et sera introduit dans la salle blanche aujourd'hui. Cela se passe en présence du ministre-président flamand Matthias Diependaele, de l'ancien directeur technique d'ASML Martin van den Brink et du CEO d'imec Luc Van den hove.

Luc Van den hove, CEO d'imec : "Aujourd'hui, nous ne nous contentons pas d'installer un appareil, nous ouvrons un nouveau chapitre de la révolution numérique. La lithographie EUV à NA élevée sera essentielle pour faire entrer l'industrie des puces dans l'ère ångström. Ces dimensions ultra-petites sont cruciales pour permettre les applications d'intelligence artificielle de l'avenir. Nous sommes donc particulièrement fiers que l'imec puisse jouer un rôle de premier plan dans ce domaine."

"L'installation à imec est une étape importante vers l'ère ångström", déclare Christophe Fouquet, CEO d'ASML. "Ensemble, nous accélérons le développement et le déploiement de l'EUV High NA pour les prochaines générations de mémoires avancées et de puces informatiques."

Premier site en Europe

Leuven sera le premier site en Europe à déployer une machine High NA EUV sur une ligne de production. L'installation de cette machine de production de puces fait partie de la collaboration stratégique entre imec et ASML, et a été cofinancée par le gouvernement flamand, le gouvernement néerlandais et l'Europe (par l'intermédiaire de l'entreprise commune Chips). Luc Van den hove : "En tant qu'élément essentiel de la ligne pilote NanoIC, le dispositif permettra à l'Europe de jouer un rôle important dans l'écosystème mondial des puces au cours des prochaines décennies."

Dans la salle blanche d'imec, l'écosystème mondial des fabricants de puces, des fournisseurs de dispositifs et de matériaux et des experts en métrologie se réunit pour développer la prochaine génération de puces. L'imec et ses partenaires auront désormais un accès direct au dispositif de lithographie EUV High NA le plus avancé, ainsi qu'à un grand nombre de dispositifs complémentaires déjà installés dans la salle blanche.

"Partout dans le monde, il devient clair aujourd'hui que l'intelligence artificielle et les semi-conducteurs constituent l'épine dorsale de notre prospérité économique, de notre sécurité et de notre autonomie stratégique", déclare le ministre-président flamand Matthias Diependaele. "Quiconque souhaite donner une orientation à cet avenir doit oser investir dans la connaissance, la confiance, l'échelle et la coopération. Avec l'installation de cette machine EUV High NA, imec confirme son rôle unique de plaque tournante de l'écosystème mondial des puces. Ici, en Flandre, nous ne construisons pas seulement une technologie de classe mondiale, mais aussi la capacité de contribuer à définir le rythme et l'orientation de l'innovation en matière d'IA en Europe."